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磁流體密封裝置 |
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為單晶硅爐、鍍膜設(shè)備、化學(xué)氣相沉積、液晶再生、電子指示器、熱處理爐等超高真空系統(tǒng)及對環(huán)境要求較高的設(shè)備提供優(yōu)質(zhì)磁流體密封件。高壓磁流體密封件已開發(fā)成功。
《一種藍(lán)寶石爐用磁流體密封裝置》專利號ZL201721711698.3 |
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高適應(yīng)性：從低速到高速，從低壓到高壓，
從室溫到高溫，均能滿足各種設(shè)備的要求。 |
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高性能：極限真空度10-6Pa.泄漏率10-12
Pa·m3/sec |
長壽命：無磨損，具有極佳的工作
可靠性 |
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